现代塑料加工应用

2007, No.107(05) 1-4

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原位分散聚合制备纳米PANI-SiO_2薄膜的性能
Properties of PANI-SiO_2 Films Prepared by In-Situ Dispersion Polymerization

魏琦;王新;慕晶霞;范海军;吴其晔;

摘要(Abstract):

采用纳米二氧化硅(SiO_2)作空间稳定剂,通过苯胺的原位分散聚合在玻璃表面直接制备PANI-SiO_2透明导电纳米复合膜。薄膜的表观形态和组成通过扫描电镜(SEM)、红外光谱分析(FTIR)、紫外可见光谱分析(UV-Vis)进行了表征。结果发现,薄膜的形成经历了成核、生长、生长饱和3个明显的过程,薄膜表面光滑致密,膜厚在3~300 nm;SiO_2对薄膜表面质量有良好改善作用,对薄膜的导电率稍有影响。此外对成膜机理进行了讨论。

关键词(KeyWords): 原位分散聚合;聚苯胺;纳米二氧化硅;薄膜;成膜机理

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金(50390090)

作者(Author): 魏琦;王新;慕晶霞;范海军;吴其晔;

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